然泉电子级超纯水设备
工艺流程:
●自来水－增压泵－介质过滤器－活性碳过滤器－软水器（阻垢剂投加）－保安过滤器－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透－无菌纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2μm精密过滤器－用水点
●自来水－增压泵－介质过滤器－活性碳过滤器－软水器（阻垢剂投加）－保安过滤器－反渗透－无菌纯化水箱－纯水泵－阳床－阴床－混合床－紫外线杀菌器－0.2μm精密过滤器－用水点
●自来水－增压泵－介质过滤器－活性碳过滤器－软水器（阻垢剂投加）－保安过滤器－一级反渗透－加药机（PH调节）－－二级反渗透－中间水箱－水泵－EDI设备－无菌纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2μm精密过滤器－用水点
应用场合:
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
超纯材料和超纯化学试剂
实验室和中试车间
汽车、家电表面抛光处理
其他高科技精微产品
电子级水质标准:
序号 |
水质项目 |
单位 |
E-Ⅰ |
E-Ⅱ |
E-Ⅲ |
E-Ⅳ |
1 |
电阻率，25℃ |
MΩ·cm |
18① |
15② |
2 |
0.5 |
2 |
二氧化硅（全） |
μg/L |
5 |
10 |
100 |
1000 |
3 |
微粒（粒径＞1μm） |
个/mL |
2 |
5 |
100 |
500 |
4 |
微生物 |
个/mL |
1 |
10 |
50 |
100 |
5 |
有机物（TQC） |
μg/L |
50 |
200 |
1000 |
5000 |
6 |
铜Cu |
μg/L |
2 |
10 |
100 |
1000 |
7 |
氯Cl |
μg/L |
2 |
10 |
100 |
500 |
8 |
钾K |
μg/L |
1 |
10 |
200 |
1000 |
9 |
钠Na |
μg/L |
1 |
10 |
200 |
1000 |
10 |
锌Zn |
μg/L |
5 |
20 |
200 |
500 |
11 |
总固体 |
μg/L |
10 |
50 |
500 |
2000 |
①90％时间纯水电阻率应≥18 MΩ·cm，允许短时间不小于17 MΩ·cm。
②90％时间纯水电阻率应≥15 MΩ·cm，允许短时间不小于12 MΩ·cm。
说明： 1. 表中2～11项均指最大允许含量。
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